بررسی اثر محلول‌پاشی نانو اکسید آهن بر جذب عناصر غذایی در غده سیب-زمینی

در خاک‌های ایران به دلیل داشتن pH بالا، آهک فراوان و مصرف کود فسفاته بیش از نیاز در گذشته، جذب عناصر کم‌مصرف نظیر آهن توسط ریشه کمتر از نیاز گیاه می‌باشد که این کمبود سبب اختلال در رشد و نمو گیاه می‌شود. به منظور بررسی محلول پاشی آهن آزمایشی به‌صورت فاکتوریل، در قالب طرح پایه بلوک‌های کامل تصادفی در 3 تکرار در سال 1391 در اردبیل اجرا شد. فاکتور اول شامل کود نانواکسید آهن در سطوح 0، 5/0، 1، 5/1، 2 درصد و اکسید آهن معمولی در سطح 2 درصد و فاکتور دوم شامل مراحل محلول‌پاشی (زمان رشد رویشی، زمان شروع غده‌بندی و زمان پرشدن غده) بود. نتایج تجزیه واریانس نشان داد که اثر غلظت‌های مختلف نانو اکسید آهن بر میزان سدیم، آهن برگ، فسفر غده و عملکرد در هکتار، اثر مراحل محلول‌پاشی بر میزان پتاسیم و عملکرد غده در هکتار و اثر متقابل این عوامل بر غلظت آهن غده سیب‌زمینی معنی‌دار بود. ضمن آنکه اثر عامل‌های فوق روی غلظت کلسیم غده غیر معنی‌دار بود. نتایج مقایسه میانگین اثر غلظت نانو اکسید آهن نشان داد که بیشترین مقادیر سدیم و فسفر غده در تیمار شاهد بدون مصرف کود آهن، بیشترین آهن برگ در تیمار شاهد با مصرف کود آهن معمولی و بیشترین عملکرد غده در هکتار در غلظت 2 درصد نانو اکسید آهن حاصل شد. مقایسه میانگین اثر مراحل محلول‌پاشی نشان داد که بیشترین میزان پتاسیم غده و عملکرد در هکتار با محلول‌پاشی در زمان پر شدن غده بدست آمد. مقایسه میانگین اثر متقابل عوامل فوق نیز نشان داد که ترکیب تیماری غلظت 2 درصد نانواکسید آهن با محلول‌پاشی در زمان پر شدن غده بیشترین غلظت آهن غده را به خود اختصاص داد.